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为什么平面抛光机加工Ge片时要同时加入MgO及强氧化剂

作者:spider 发表时间:2014-04-21 人气:

    在使用平面抛光机加工Ge片时,与之匹配的是一种含有MgO及强氧化剂两种成分的抛光液。
    为何要使用这些成分,而且这二者又为何要同时存在,这对平面抛光机的加工性能有什么影响?小编不禁对这个问题发生好奇。
    这要从Ge片被平面抛光机被研磨时发生的化学反应开始说起。
平面抛光机外观
    据有关报道,当体系中存在Ge时,由于电极反应,强氧化剂会将衬底表面的Ge氧化成氧化物,转动的抛光布的机械摩擦可以将它除去。
    MgO在平面抛光机抛光过程中,主要起着研磨作用。由于Ge在常温下空气中稳定,也不被水所分解,盐酸和稀硫酸不与它作用,强碱对它也不起作用,因为MgO在水中的溶解度很小,在水中加入MgO产生OH¯离子也很难与Ge作用,化学反应几乎未进行。
    所以当平面抛光机的机械抛光过程中不存在强氧化剂时,单独使用MgO加H2O抛光Ge片,此时纯属MgO与Ge的机械研磨作用,不仅去层速率极慢,甚至平面抛光机的抛光难以进行,表面产生严重划道。
    反之,当体系中不存在Ge片,平面抛光机抛光速率极慢,此时,经过长时间抛光,得到的只是光亮感的桔皮状表面。
    总之,当平面抛光机的抛光液既有MgO,又有强氧化剂时,其抛光速度快、成本低、表面无桔皮、无波纹、无划道、无拉丝等宏观缺陷,质量很好。
    该种抛光液,同样也适用于镜面抛光机铝合金抛光机等。